Важное
В России создали оборудование для выпуска микросхем по техпроцессу 65 нм
Научно-исследовательские институты НИИМЭ и НИИТМ, входящие в группу компаний "Элемент", завершили создание первых в России кластерных систем для плазмохимического осаждения (ПХО) и травления (ПХТ). Как сообщили Ведомостям в пресс-службе ГК "Элемент", эти установки позволят производить интегральные микросхемы по топологическим нормам 65 нм на пластинах диаметром 200 мм и 300 мм.
