Как рассказал Известиям главный разработчик проекта Евгений Гиваргизов, технология мультикатода уже создана и прошла практические испытания. По его словам, в отличие от зарубежных решений, где один электронный луч разделяется сложной системой зеркал и затворов, российская разработка формирует множество независимых источников электронов на единой подложке, что должно снизить стоимость оборудования и требования к инженерной инфраструктуре.
Разработчики рассчитывают создать первый опытный образец литографа примерно через три года. Предполагается, что технология сможет использоваться для производства микросхем с различными технологическими нормами – от 350 нм до нескольких нанометров.
По словам эксперта НТИ по микроэлектронике и электронной промышленности Сергея Сазонова, концепция многолучевой электронной литографии выглядит перспективной и при успешной реализации способна ускорить производство и снизить зависимость России от импортного оборудования.
Не хотите пропускать интeресные материалы? Раз в неделю публикуем дайджест с главными новостями в Telegram-канале: t.me/MilPressWeekly.
Российские разработчики нашли способ ускорить производство микросхем
Российская команда при поддержке Национальной технологической инициативы (НТИ) представила проект многолучевого электронного литографа для производства современных микросхем. Ключевой элемент установки – мультикатод, позволяющий формировать сразу множество электронных лучей вместо одного. По расчетам разработчиков, это сократит время экспонирования кремниевой пластины с полутора–двух недель до 5–7 минут, что примерно в 3000 раз быстрее традиционных однолучевых систем.
