Названы сроки появления российского литографа для выпуска перспективных микросхем

"Мы в прошлом году получили сканер совместно с Белоруссией на длине волны 350 нанометров. Сейчас уже испытывается наш сканер на длине волны 248 нанометров. Идут работы по новому сканеру на длине волны 193 нанометра, который будет предназначен на 90 нанометров и ниже. Кстати, эта длина волны очень перспективная, потому что на ней делаются и пятинанометровые микросхемы".


По его мнению, такой российский литографический сканер на длине волны 193 нанометра появится ориентировочно через два года.

Литографический сканер – это устройство, используемое для создания микросхем. Оборудование такого уровня сложности собирается несколькими крупными игроками, самый крупный из них – нидерландский ASML, а также Canon и Nikon. Чипы, созданные на оборудовании с длиной волны 350 нанометров, хотя и считаются технологически несовременными, тем не менее до сих пор используются во многих отраслях, в том числе в автопроме, энергетике и телекоммуникациях.